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土壤和地下水(污染调查、对策业绩)

针对土壤和地下水污染的措施

根据定期观测对污染状况进行管理,努力促进净化及防止污染扩大。
对于发现土壤和地下水有污染的网点,为防止其污染物质给周边带来影响而进行定期观测,进行切实的管理。
针对净化污染及防止污染扩大,组成了专门队伍,并在其管理下,为制定对策而实施详细调查,同时探讨适用于该污染状况的净化技术。
定期向行政机关和近邻汇报并请他们来确认净化的处理结果及观测结果的变化。

被确认有土壤和地下水污染的各网点的状况
事业所 净化和监视对象物质 2015年度的进展
东京基地日野
(东京都日野市)
氟、硼、水银、苯、铅 根据在基地边界设置的观测井对地下水进行的定期观测结果,已经确定曾使用过的某特定有害物质数值在环境标准值以下,对周边没有带来不良影响。
在拆解前进行了事先调查,确认铅的土壤含量超过了标准值。采取了防止污染扩散的措施,对周边没有造成影响。
在苯含量超过了标准值的场所,对于无法挖掘净化的地方正在使用气吸方法进行净化。对地下水没有影响。
东京基地八王子
(东京都八王子市)
六价铬 通过从基地境内设置的抽水井中抽水来继续推行净化和防止污染扩散措施。此外还对地下水进行定期观测,已确认没有发生从基地外流的情况。
甲府基地
(山梨县中央市)
对基地境内进行定期观测,已确认未超过地下水标准值。
三河基地西地区
(爱知县丰川市)
TCE※1、氟 2013年度的抽水措施已经结束,但在那之后还在继续定期地对地下水进行监测,将数值维持在标准值以下。
对于因氟造成的土壤污染,地下水定期观测结果显示没有发生从基地外流的情况。
伊丹基地
(兵库县伊丹市)
铅、砒素、镉、氟、硼 对于在基地内的某些地方发现的地下水硼值超标的情况,继续通过抽水来净化和防止污染扩散,并已确认没有从基地外流。
另外,关于铅、砷、镉、氟,也已通过地下水观测确认没有发生从基地外流的情况。
堺基地
(大阪府堺市)
TCE、PCE※2、c-DCE※3
铅、砷、镉
对于TCE、PCE、c-DCE,继续利用抽水来净化并防止污染扩散,并防止从基地外流。
对于铅、砷、镉,地下水定期观测结果也显示基地边界的观测井数据在环境标准值以下,以此确认对周围并没有产生不良影响。
大阪狭山基地
(大阪府大阪狭山市)
TCE、PCE、 c-DCE 2012年度实施了排水处理设施周边的净化工程之后,还在继续通过抽水来净化水质和防止污染扩散。整体来说,地下水污染有所改善。
南海光学工业株式会社旧址
(和歌山县海南市)
TCE、PCE、c-DCE 2015年度开始实施基地内的净化工程。继续对基地范围内地下水进行观测。
丰桥精密工业株式会社※4总公司基地
(爱知县丰桥市)
(现Konica Minolta Mechatronics Co.,Ltd.植田事业所)
TCE、c-DCE、六价铬 通过定期观测,确认到对象物质并无外流。在基地内利用抽水方式来继续净化地下水,回收的地下水在处理前既已控制在标准值内。
Konica Minolta Opto Products Co., Ltd. 
(山梨县笛吹市)
TCE、PCE、 c-DCE 采用抽水、渗透性反应墙、生物屏障法来净化地下水并进行定期观测,确认对象物质没有发生从基地外流的情况。
Konica Minolta Supplies Manufacturing Co., Ltd.
(山梨县甲府市)
TCE、PCE、c-DCE 2014年度实施的生物净化工程后,在下流的观测井定期观测地下水,继续确认效果。
※1
TCE:三氯乙烯
※2
PCE:四氯乙烯
※3
c-DCE:1,2-二氯乙烯(顺式)(TCE、PCE的分解物)
※4
柯尼卡美能达电子株式会社与丰桥精密工业株式会社合并,改称为“Konica Minolta Mechatronics Co.,Ltd.”(2016年4月1日)。

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